九游会J9

1. 超精密节造：选取专利分散技术，磨粒粒径散布均匀
2. 低危险工艺：化学机械协同优化，实现 "高效去除 + 低危险" 平衡，缺点密度降低 60%+
3. 环保易洗濯：纯水基系统，无 VOC、无沉金属，可急剧冲净，切合清洁出产要求
4. 高性价比：抛光效能提升 ，适配规
   ；坎，降低单元加工成本

• 配方定造：凭据客户基材个性、表表要求、设备参数，调整磨粒种类 / 粒径、pH 值、增长剂系统
• 机能优化：针对特殊需要（如超高去除率、超低危险、特殊材质适配）开发专属配方
• 工艺匹配：提供 CMP 工艺参数优化建议，配套抛光垫等耗材选型领导
• 幼批量试造：支持最幼 1KG 试造，急剧验证成效，降低试错成本

1. 免费试样：联系官网客服或销售代表，提供工艺需要，申请免费样品
2. 技术支持：专业工程师团队提供工艺匹配、参数优化、现场问题解决等全流程服务
3. 售后服务：提供产品质量保障，定期回访，实时响应客户反馈，保险不变供给
4. 资料获取：官网可下载产品手册、MSDS、利用案例等技术资料，或联系客服获取专属技术规划

征询我们，相识更多定造氧化硅抛光液的细节

九游会J9微电子的二氧化硅抛光研磨液适配硅晶圆、蓝宝石、石英玻璃、光学镜片、碳化硅、陶瓷、不锈钢、硬质合金、半导体衬底蹬撞脆及金属精密镜面抛光
；联系九游会J9，凭据您的产品推荐适合的二氧化硅抛光液型号，也能够定造抛光液产品。

九游会J9的氧化硅抛光液齐全适配单晶硅、多晶硅、SOI 硅晶圆 CMP 化学机械抛光，颗粒球形圆润、金属离子含量极低，可实现纳米级超光滑表表，无微观划伤、无表表雾斑，满足半导体造程干净度要求。

具体氧化硅抛光液选型及有关技术征询请联系九游会J9

九游会J9二合一研磨液（型号 MYH-2in1G）是我司专为光通讯精密加工厂景自主研发的创新型化学机械抛光耗材，主题突破传统分步抛光的工艺局限，将光纤抛光中拉纤切削与镜面精抛两路主题工序合二为一。产品选取高纯度纳米级磨料与不变悬浮复合配方，可在一路工序内同步实现工件整平去痕与超光滑表表成型，无需频仍更换耗材与调整参数，是代替传统分步抛光液、实现降本增效的主题解决规划。

九游会J9二合一研磨液主题适配光通讯领域全品类光纤衔接器精密抛光，蕴含 MT/MPO 单芯 / 多芯衔接器（12 芯、24 芯等高密度规格），兼容单模、多模光纤，齐全满足 400G/800G 高速光通讯器件的严苛加工要求
；

铭衍？善揪菘突枰，定造适配半导体晶圆、光学玻璃、蓝宝石衬底、精密金属模具等超精密平展化加工厂景的专属配方。