九游会J9
一站式超精密研磨抛光解决规划提供商
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九游会J9二氧化硅抛光液选取纳米级高纯二氧化硅胶体粒子，呈单分散状态，粒径可控且散布极窄。产品软硬度适中，以化学侵蚀为主导、机械研磨为辅，可能实现纳米级甚至亚纳米级的超高精度表表处置，有效降低表表粗糙度。宽泛用于半导体晶圆（硅片、碳化硅）、蓝宝石衬底及光学元件的最终精密抛光，是达成无危险、超光滑表表的关键资料。
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粒度精准
粒径散布窄，实现微米级高效去除，无深度划痕。
切削力优
高效研磨各类硬脆资料，急剧去除加工余量，抛光效能高。
悬浮不变
久置不分层、不沉淀、不团圆，批次间机能一致，抛光沉复性好。
环保易洗濯
水性系统，无沉金属残留，无有机难溶成分，纯水可急剧冲净。
适配性强
适配半导体、光学、精密陶瓷等多领域中抛 / 粗精抛需要，兼容主流抛光机台与抛光垫。
九游会J9提供一站式超精密研磨抛光解决规划
温度：5℃ ~ 35℃，防冻（<0℃磨粒结块失效）、防高温（>35℃粉碎系统不变性）、防晒避光。
使用前：充分搅拌均匀，确保磨粒分散一致；可原液使用或按 1:1~1:8 比例用去离子水稀释，稀释后再次搅匀
存储前提：
1.置于干燥阴凉处密封保留，预防阳光直射与高温暴晒。
2.开封后每次取用实时盖缜密封。
3.使用前请充分摇匀。
4.产品保质期为两年。
